פוטוליתוגרפיה היא תהליך המשמש בייצור מיקרו להעברת תבניות גיאומטריות לסרט או מצע. צורות גיאומטריות ותבניות על מוליכים למחצה מרכיבים את המבנים המורכבים המאפשרים לחומרים, לתכונות החשמליות ולחוטים להשלים מעגל ולהגשים מטרה טכנולוגית.
מהו תהליך הפוטוליתוגרפיה?
פוטוליתוגרפיה, המכונה גם ליתוגרפיה אופטית או ליתוגרפיה UV, היא תהליך המשמש בייצור מיקרו לדוגמא של חלקים על סרט דק או עיקר המצע (נקרא גם רקיק). … במעגלים משולבים מורכבים, רקיקת CMOS עשויה לעבור את המחזור הפוטוליתוגרפי עד 50 פעמים.
מהם תהליך הייצור המיקרו?
ייצור מיקרו הוא תהליך של ייצור מבנים מיניאטוריים של סולמות מיקרומטר ומטה. … המושגים והעקרונות העיקריים של ייצור מיקרו הם מיקרוליתוגרפיה, סימום, סרטים דקים, תחריט, מליטה וליטוש.
מהו תהליך ליתוגרפיה במוליכים למחצה?
מערכת ליתוגרפיה מוליכים למחצה נוקטת תהליך לפיו דפוסי מעגלים מורכבים ביותר המצוירים על גבי מסכת פוטו העשויה מלוח זכוכית גדול מצטמצמים באמצעות עדשות בעלות ביצועים גבוהים במיוחד ונחשפים על גבי מצע סיליקון המכונהרקיק. …
מהי ליתוגרפיה בתהליך ייצור?
ליתוגרפיה היאתהליך העברת תבניות של צורות גיאומטריות במסכה לשכבה דקה של חומר רגיש לקרינה (המכונה resist) המכסה את פני השטח של פרוסת מוליכים למחצה. איור 5.1 ממחיש באופן סכמטי את התהליך הליטוגרפי המופעל בייצור IC.
