Photolithography משמש בדרך כלל ליצור שבבי מחשב. בעת ייצור שבבי מחשב, חומר המצע הוא רקיק מכוסה התנגדות של סיליקון. תהליך זה מאפשר לבנות מאות שבבים בו-זמנית על רקיקת סיליקון אחת.
איך מתבצעת הצילום?
פוטוליתוגרפיה משתמשת בשלושה שלבי תהליך בסיסיים כדי להעביר תבנית ממסכה לרקיק: coat, develop, expose. התבנית מועברת לשכבת פני הרקיק במהלך תהליך שלאחר מכן. במקרים מסוימים, ניתן להשתמש בתבנית ההתנגדות גם כדי להגדיר את התבנית עבור סרט דק שהושקע.
למה זה נקרא פוטוליטוגרפיה?
ליטוגרפיה מוליכים למחצה (צילום) - התהליך הבסיסי . ייצור של מעגל משולב (IC) דורש מגוון תהליכים פיזיקליים וכימיים המבוצעים על מצע מוליכים למחצה (למשל, סיליקון). … המילה ליתוגרפיה באה מהיוונית lithos, שמשמעותה אבנים, ו-graphia, שמשמעה לכתוב.
למה ליתוגרפיה חשובה?
ליתוגרפיה היא תהליך העברת דפוסים של צורות גיאומטריות במסכה לשכבה דקה של חומר רגיש לקרינה (המכונה resist) המכסה את פני השטח של פרוסת מוליכים למחצה. איור 5.1 ממחיש באופן סכמטי את התהליך הליטוגרפי המופעל בייצור IC.
מהי השיטה הנפוצה ביותר בשיטות ליטוגרפיות?
אופטיליטוגרפיה היא טכניקה מבוססת פוטון המורכבת מהקרנת תמונה לתוך תחליב רגיש לאור (פוטורסיסט) המצופה על מצע כגון פרוסת סיליקון. זהו תהליך הליטוגרפיה הנפוץ ביותר בייצור בנפח גבוה של ננו-אלקטרוניקה על ידי תעשיית המוליכים למחצה.